在金属膜均匀性分布、离子掺杂和注入表征、薄膜厚度和电阻率分布、以及非接触膜厚测量上都可有效表征
电阻测量技术创新的桌面型解决方案
Eplec-R/RC
Eplec-R/RC 电阻率测试仪采用接触式四探针(4PP)和非接触式电涡流(EC)配置，在金属膜均匀性分布、离子掺杂和注入表征、薄膜厚度和电阻率分布、以及非接触膜厚测量上都可有效表征。
产品优势
卓越的测量性能
极广的样品与工艺兼容性
测量数据分析与可视化
精准、灵活的自动化平台
简洁高效的用户体验
拥有生产集成能力，满足量产需要
选配加热模组，优化离子注入工艺
应用场景
晶圆加工
金属化层、晶圆掺杂变化、衬底表征、离子注入变化分布、激光退火表征
技术
金属沉积、柔性衬底表征、薄膜diandaolv变化分布、激光退火表征
研发及其他应用
柔性薄膜电阻率、过滤网、多层薄膜表征、金属薄膜、可穿戴设备、可充电电池
