可实现从亚纳米表面感知到数十微米透明膜厚的精准测可量，大面积均匀性测绘、通用薄膜表征、原位监测、工艺控制等多场景优势
集成微区定位、成像观察与精确光谱椭偏测量功能的一体化系统 薄膜厚度 光学常数 微纳结构光学表征 高级分
SEAL-GE
SEAL系列光谱椭偏仪通过椭偏参数、透射/反射等参数测量，实现各种单层到多层的各向同性/各向异性薄膜膜厚、折射率(n)、消光系系数(k)及介电函数(ε1,ε2)快速表征。覆盖193-2500nm波长范围，涵盖深紫外、可见及近红外光谱。其高精度、高效率的测量能力，使其广泛应用于半导导体制造、光学镀膜、新能源材料等领域。
主要特点
晶圆薄膜的高精度、多光谱单层和多层膜的分层与总厚度测量
可测量介质材料、半导体硅化物材料、超薄金属材料半导体薄膜厚度、折射率(n)和消光系数(k)等物理参数
量测范围覆盖10Å-50μm，实现超高精密量测
应用场景
半导体行业：二氧化硅和氮化物，高介电和低介电材材料，非晶和多晶材料，硅薄膜，光刻胶
光学薄膜行业：SiO2，TiO2，Ta2O5，MgF2等高低指数薄膜
显示屏行业：TCO（如ITO），非晶硅薄膜，有机薄膜（OLED技术）
工艺研发：可兼容MBE，MOCVD，ALD和磁控溅射等设备
化学和生物：在液体细胞实验中探测亚单原子层材料吸附
工业：在线监测和控制膜厚
