微米级的3D形貌分析能力,实现高度精度量测精度<0.2 μm,确保Micro Bump共面性等关键参数达标。
自研AI模型实现缺陷智能分类,深度学习消除工艺噪声干干扰
UltraINSP SP10x
UltraINSP SP10x融合高分辨率2D图像识别与高精度3D形貌测量技术,专为半导体制造中的关键尺寸检测与缺陷识别而设计。系统了支持智能缺陷识别、自动统计与可视化分析,助力客户提升良率与工艺控制能力。
产品优势
全尺寸全材料兼容性
支持8/12寸图形化晶圆检测,覆盖2D缺陷检测(短路、断路、异物残留)与3D形貌量测(高度、深度、共面性等),满足先进封装(TSV、MicroBump)与化合物半导体(SiC、GaN等)制造需求。
高精度三维量测
微米级的3D形貌分析能力,实现高度精度量测精度<0.2 μm,确保Micro Bump共面性等关键参数达标。
AI深度学习融合算法
自研AI模型实现缺陷智能分类,深度学习消除工艺噪声干扰,针对新型缺陷做小样本学习,仅需少量标注数据即可更新模型。
定制化客户需求
定制化检测方案与软件配置,根据产线需求进行定制化配置置和开发。
极速检测效能
单机产能>30WPH(12寸晶圆标准检测模式),动态路径规划与多线程并行处理技术减少无效机台移动,支持大规模量产线连续作业。
自动化数据链路
兼容SECS/GEM协议实现设备远程监控与预测性维护,支持Sinf/Klarf格式缺陷图谱输入输出,无缝对接EDA设计数据与MES/SPC系统。