可实现各种介质保护膜、半导体薄膜、玻璃镀膜等膜厚快速表征
精准掌控亚微米级膜厚，,为芯片制造提质增效
SpectraFilm S10
SpectraFilm S10 可实现各种介质保护膜、半导体薄膜、玻璃镀膜等膜厚快速表征。用户可以在200nm-2500nm光谱范围内进行薄膜莫厚度，反射率、透过率、n/k等参数表征。
产品优势
纯 SR 光谱反射测量
非接触、无损伤、不污染晶圆
测量速度极快，毫秒级单点
适合透明膜、多层膜、介质膜高精度量测
超高精度膜厚测量
膜厚精度
重复性
支持单层 / 双层 / 三层膜同时测量
宽光谱覆盖
多波段可选
覆盖 DUV～NIR，适配绝大多数半导体薄膜
应用场景
晶圆制程：SiO2、Si2N2、高 k 介质、金属栅、钝化层膜厚测量
光刻工艺：光刻胶（正 / 负）厚度、均匀性、显影 / 刻蚀监控
先进封装：凸点下金属层（UBM）、再布线层（RDL）、钝化膜检测
化合物半导体：GaN、SiC、GaAs 外延层 / 介质层测量
质量控制：晶圆级 Mapping、批次一致性、来料检验、工艺稳定性监控
