晶圆薄膜及关键尺寸量测设备系列

UltraFilm F3x(s) 全材质膜厚及关键尺寸量测系统

SE+SR实现光阻膜、外延膜、介质膜等单层多层全材质膜厚测量

覆盖深紫外到红外波段实现0.5 nm超薄膜到200 μm厚膜测量

微米级聚焦光斑实现对微小区域定位的精准表征 

功能特点

支持硅、氮化硅、氮化镓、石英、玻璃、砷化镓和金属化合物等薄膜材质

可实现单层和多层膜厚的量测识别能力

可拓展翘曲、弯曲、厚度分布等形貌尺寸和薄膜应力、方块电阻量测能力

扩展实现高精度光栅关键尺寸量测