关键尺寸量测设备
UltraCD F7x 全自动光学关键尺寸量测系统
UltraCD F7x全自动光学关键尺寸量测系统依托高精度光学膜厚量测平台，实现对多种半导体工艺段中的关键尺寸的高精度量测。设备支持显影后检查（ADI）、刻蚀后检查（AEI）等关键工艺环节，可测量线宽（CD）、侧壁角度（SWA）、高度/深度（Height/Depth）等几何参数。
功能特点
