UltraOVL F9x
UltraOVL F9x 实现键合与异构集成工艺中的高精度套刻误差量测。
亚纳米级测量重复精度多技术融合平台全自动标记识别
UltraOVL F9x 基于先进的成像与衍射套刻测量技术,专为晶圆制造中多层图形对准精度的关键控制而设计。系统支持多种套刻标记类型的自动识别与测量,以亚纳米级重复精度捕捉套刻误差,助力先进节点及3D结构工艺的良率提升与反馈控制。
产品优势
套刻误差测量 光刻工艺监控 自动化检测平台 数据分析能力
应用场景
半导体前道制造
先进封装
工艺开发


Product Details
UltraOVL F9x 实现键合与异构集成工艺中的高精度套刻误差量测。
UltraOVL F9x 实现键合与异构集成工艺中的高精度套刻误差量测。
UltraOVL F9x 基于先进的成像与衍射套刻测量技术,专为晶圆制造中多层图形对准精度的关键控制而设计。系统支持多种套刻标记类型的自动识别与测量,以亚纳米级重复精度捕捉套刻误差,助力先进节点及3D结构工艺的良率提升与反馈控制。
套刻误差测量 光刻工艺监控 自动化检测平台 数据分析能力
半导体前道制造
先进封装
工艺开发
