UltraFilm F3

UltraFilm F3 采用高精度宽光谱椭偏技术，支持多类介质薄膜光学参数量测。

极薄量测复杂多层膜堆栈解析卓越的工艺稳定性

UltraFilm F3 高精度介质膜量测系统专为半导体前道制程打造，依托宽光谱椭偏技术，输出氧化、扩散、CVD/ALD 工艺膜厚与光学常数 (n,k)。亚纳米级灵敏度可捕捉细微厚度波动，保障先进制程介质层品质稳定。