UltraFilm F2

UltraFilm F2 面向光刻工艺提供光阻膜厚与均匀性检测。

UltraFilm F2 专为半导体光刻工艺量身定制，集成高精度的光谱反射与先进薄膜解析算法，专注于解决复杂底层上光刻胶及其辅助膜层的高难度测量挑战,为晶圆涂覆工艺提供高可靠性、高重复性的制程监控数据。