UltraFilm F3s

UltraFilm F3s 用于外延层厚度及光学参数的高精度量测。

UltraFilm F3s基于“高精度的宽光谱探测”与“多维光信号解析技术”，专为硅、氮化镓、碳化硅等半导体外延及薄膜工艺量身打造。该设备能够依据不同器件与工艺的严苛要求,实现对单层或多层外延薄膜厚度及光学常数的精准测量与实时监控,已成为外延制造工艺中不可或缺的关键质控环节。