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全自动晶圆探针方阻测试系统

UltraElectric R1自动电阻率测试系统

UltraElectric R1

系统采用四探针(4PP法),通过四个等间距的探针与被测材料接触,以测量材料的电阻率、方块电阻等参数。

四探针(4PP法)金属薄膜均一性离子注入工艺表征

UltraElectric R1自动电阻率测试系统,在晶圆的封装测试阶段提供一整套完整的电阻率测试和解决方案。系统采用四探针(4PP法),通过四个等间距的探针与被测材料接触,以测量材料的电阻率、方块电阻等参数。

产品优势

自动晶圆加载和对准模块 Wafer ID字符识别模块 历史数据存储与查询模块 SECS/GEM通讯模块 自动寻边调整模块 工艺模型与检测配方匹配系统

应用场景

晶圆加工

研发及其他应用

金属沉积

柔性衬底表征

激光退火表征

UltraElectric R1