UltraElectric R1
系统采用四探针(4PP法),通过四个等间距的探针与被测材料接触,以测量材料的电阻率、方块电阻等参数。
四探针(4PP法)金属薄膜均一性离子注入工艺表征
UltraElectric R1自动电阻率测试系统,在晶圆的封装测试阶段提供一整套完整的电阻率测试和解决方案。系统采用四探针(4PP法),通过四个等间距的探针与被测材料接触,以测量材料的电阻率、方块电阻等参数。
产品优势
自动晶圆加载和对准模块 Wafer ID字符识别模块 历史数据存储与查询模块 SECS/GEM通讯模块 自动寻边调整模块 工艺模型与检测配方匹配系统
应用场景
晶圆加工
研发及其他应用
金属沉积
柔性衬底表征
激光退火表征