UltraElectric R2
UltraElectric R2系统基于涡流法测试技术,可实现对纳米级薄膜电阻率、方阻等核心电学参数的无损精准测量
涡流法测试技术锭片一体式量测离子注入工艺表征
UltraElectric R2系统基于涡流法测试技术,可实现对纳米级薄膜电阻率、方阻等核心电学参数的无损精准测量,满足从实验室级材料研究到量产线工艺监控的全场景需求。
产品优势
自动晶圆加载和对准模块 Wafer ID字符识别模块 历史数据存储与查询模块 SECS/GEM通讯模块 自动寻边调整模块 工艺模型与检测配方匹配系统
应用场景
晶圆加工
研发及其他应用
金属沉积
柔性衬底表征
激光退火表征